0.1nm的精度，已经比Si(111)-7*7表面的原子间距都小了。以我日益退步的物理水平，切半个原子这种事，实在理解不了，我们就退而求其次，把题主假设的水平降低些，退化成「 原子精度光刻机 」。
要是题主真能搞出「原子级光刻」，那去华为拿五六万的月薪实在是太大材小用了。
「原子级光刻」它的应用肯定不是目前的半导体产业，主要原因是，这么小的半导体部件，量子力学中的隧穿效应就不能被忽略，电子行为不能再用目前的经典模型描述，电子怎么跑难以准确预测和控制。拿来做半导体器件，肯定是不合适的。但个人以为，在 量子计算 领域，会有非常广阔的应用。
如果题主能做出「原子级光刻」，拿几个诺贝尔奖肯定是必须的（多门技术的突破并带动新领域的发展）。这样的贡献是对人类现有知识的突破，它绝不会仅限于一家企业或者一个国家。
但我实在不看好，光刻技术能够实现原子级精度的加工。主要是因为有衍射效应的存在。光要实现原子精度的准确定位，频率要求太高了，我很怀疑是否有技术产生如此高能的X光。即使用电子束，困难恐怕也不小。目前双球差校正的电镜实现原子分辨也才没几年，而原子精度的加工，则又是另外一回事了。
目前，原子级精度的表面调控，最常用的技术还是扫描隧道显微镜STM。澳大利亚新南威尔士大学的Michelle Yvonne Simmons [1] 在进行相关研究，目标还是放在量子计算上。不过，说实话，STM操纵表面，虽然目前也具备一定的可编程性，但和光刻技术比，自动化程度和速度都有量级上的差距。未来发展如何，我这个外行不敢乱说。
知乎发私信建议我插入咨询卡片，那就欢迎聊聊表面科学吧。
参考
- ^https://research.unsw.edu.au/people/scientia-professor-michelle-yvonne-simmons
