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美卖力施压,中国造出来了,德媒:中国突破7纳米芯片光刻机技术

2024-09-25新闻

在9月6日,荷兰宣布将扩大光刻机的管制的范围,将限制更多类型的光刻机出口。即使中国和荷兰就这个问题进行了多层级、高频率的磋商,荷兰光刻机巨头阿斯麦也要挟「搬家」,但荷兰政府还是决定进一步加强光刻机出口管制。美国这些年一直都在向盟友施压,包括荷兰、日本、韩国、德国,要求他们收紧对中国半导体技术出口限制,最近阿斯麦和东京电子的总部所在地,荷兰和日本听从了美国的指令。更离谱的是,从今年4月,美国政府一直敦促阿斯麦在2024年之前,停止为部分出售给中国客户的设备提供售后和维修服务,彭博社甚至抛出「远程瘫痪台积电光刻机」的消息。最近黎巴嫩电子设备连环爆炸事件,让我觉得这真是他们能干出来的事。不过,面对美国极其盟友的施压,中国芯片制造商表现出了惊人的韧性。美国在这边卖力施压,中国自己造出来了。

最近,「德国之声」网站报道称,上海微电子装备集团有限公司公布了,一系列制造7纳米及以下芯片关键能力的专利,显然中国正迅速缩小与西方在先进芯片领域的差距。这让我想到前段时间中国公共外交协会会长吴海龙在论坛透露的消息,「中国可以造出自己的光刻机了」,中国芯片已经成为第一大类出口商品,将成为全球最大的芯片出口国。中国在这方面的支出也是惊人的,前不久【日经亚洲评论】报道称,在美国围堵中国获得先进半导体技术之际,中国正加速芯片本土化生产。今年上半年,中国大陆在芯片制造设备方面的支出达到创纪录的250亿美元,超过美韩台总和。这么大的投入,也是有回报的。

在9月14日,工信部公布了一个重大技术装备推广应用目录,公布了国产氟化氩光刻机,光源193纳米,能实现分辨率≤65nm,套刻精度≤8nm,主要应用于制造7纳米及以上工艺节点的芯片;另外哈工大公布「高速超精密激光干涉仪」研发成果,被认为是解决7nm以下光刻机难题的关键技术之一,还有长春光机所也在EUV光源系统上取得突破。总之可以看出中国在光刻机技术方面快速攻关,真到了临门一脚的阶段。想当年中国搞出盾构机后,其他2家外国盾构机公司,一家倒闭,一家卖给中国,最后阿斯麦也逃不过这两个结局。而美国逼着中国打通芯片全产业链,更是自掘坟墓。而且美国已经有人预想到了这个结局,最近美国民主党参众议员联名致信拜登,警告对中国进一步管制,将会让美国企业陷入死亡螺旋,因为美国盟友的企业并没像美企那样采取严厉措施。他们可不是好心,而是让美国加大对盟友监督施压,让制裁更严密,怕美国的份额被盟友抢走,利润受损。但是这都不重要了,因为随着中国芯片产业越追越近,欧美的市场会越来越小,利润少了也就没有更多钱搞研发,这才是真正的死亡循环。