0.1nm的精度，已經比Si(111)-7*7表面的原子間距都小了。以我日益退步的物理水平，切半個原子這種事，實在理解不了，我們就退而求其次，把題主假設的水平降低些，退化成「 原子精度光刻機 」。
要是題主真能搞出「原子級光刻」，那去華為拿五六萬的月薪實在是太大材小用了。
「原子級光刻」它的套用肯定不是目前的半導體產業，主要原因是，這麽小的半導體部件，量子力學中的穿隧效應就不能被忽略，電子行為不能再用目前的經典模型描述，電子怎麽跑難以準確預測和控制。拿來做半導體器件，肯定是不合適的。但個人以為，在 量子計算 領域，會有非常廣闊的套用。
如果題主能做出「原子級光刻」，拿幾個諾貝爾獎肯定是必須的（多門技術的突破並帶動新領域的發展）。這樣的貢獻是對人類現有知識的突破，它絕不會僅限於一家企業或者一個國家。
但我實在不看好，光刻技術能夠實作原子級精度的加工。主要是因為有繞射效應的存在。光要實作原子精度的準確定位，頻率要求太高了，我很懷疑是否有技術產生如此高能的X光。即使用電子束，困難恐怕也不小。目前雙球差校正的電鏡實作原子分辨也才沒幾年，而原子精度的加工，則又是另外一回事了。
目前，原子級精度的表面調控，最常用的技術還是掃描隧道顯微鏡STM。澳洲新南威爾斯大學的Michelle Yvonne Simmons [1] 在進行相關研究，目標還是放在量子計算上。不過，說實話，STM操縱表面，雖然目前也具備一定的可編程性，但和光刻技術比，自動化程度和速度都有量級上的差距。未來發展如何，我這個外行不敢亂說。
知乎發私信建議我插入咨詢卡片，那就歡迎聊聊表面科學吧。
參考
- ^https://research.unsw.edu.au/people/scientia-professor-michelle-yvonne-simmons
